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      碳化硅CVI/CVD沉積爐
      碳化硅CVI/CVD沉積爐
      產品描述:
      碳化硅CVI/CVD沉積爐主要用于碳纖維、碳化硅纖維及其編織預制件等的碳化硅界面層制備。
      應用范圍:
      碳纖維、碳化硅纖維及其編織預制件等

      碳化硅CVI/CVD沉積爐技術特征

      電阻爐可采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

      采用智能壓力調控,壓力波動小;

      全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強; 

      多通道工藝氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;

      多級高效尾氣處理系統,環境友好,易清理;

      碳化硅CVI/CVD沉積爐產品規格

      參數\型號CVI-0305-SiCCVI-0608-SiCCVI-0612-SiCCVI-0812-SiCCVI-1120-SiCCVI-1218-SiCCVI-1315-SiCCVI-1520-SiC
      工作區尺寸 φ×H(mm)300×500600×800600×1200800×12001100×20001200×18001300×18001500×2000
      最高溫度(℃)15001500150015001500150015001500
      溫度均勻性(℃)±5±7.5±7.5±7.50±10±10±10±15
      極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-1001-1001-1001-100
      壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.670.670.67
      加熱方式電阻電阻電阻電阻電阻電阻電阻電阻

      以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

      碳化硅CVI/CVD沉積爐配置選擇

      結構形式:立式-上出料/下出料

      爐門鎖緊方式:手動/自動

      爐殼材質:內層不銹鋼/全不銹鋼

      保溫材質:碳氈/石墨氈/碳纖維固化氈

      加熱器、馬弗材質:石墨/CFC

      熱電偶:C/S分度號

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      陶瓷基復合材料裝備

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