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      熱解石墨沉積爐
      熱解石墨沉積爐
      產品描述:
      主要用于石墨、半導體器件、耐熱沖刷材料的表面熱解石墨涂層或生長。
      應用范圍:
      PG坩堝、PG板材、蒸鍍用坩堝、LEC坩堝、離子注入組件等。產品純度≥99.999%/99.9999%。

      熱解石墨沉積爐技術特征

      電阻爐可采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

      采用智能壓力調控,壓力波動??;

      全封閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強;

      多通道工氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;

      多級高效尾氣處理系統,環境友好,易清理;

      可選配外循環快冷系統,降溫時間短,生產效率高;

      適于工藝氣氛:真空/CH4/C3H6/H2/N2/Ar。


      熱解石墨沉積爐產品規格

      參數\型號VCVD-0305-CVCVD-0505-CVCVD-0608-CVCVD-0612-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1218-CVCVD-1520-C
      工作區尺寸 φ×H(mm)300×500500×500600×800600×1200800×12001100×20001200×18001500×2000
      最高溫度(℃)2000/2300
      溫度均勻性(℃)±5~±20
      極限真空度(Pa)1-100
      壓升率(Pa/h)0.67

      以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

      熱解石墨沉積爐配置選擇

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      半導體材料熱工裝備

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