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      熱解氮化硼化學氣相生長爐
      熱解氮化硼化學氣相生長爐
      產品描述:
      主要用于半導體領域氮化硼的化學氣相涂層或生長。
      應用范圍:
      OLED坩堝、PBN板材/環舟、VGF坩堝、LEC坩堝等。產品純度≥99.999%/99.9999%。

      熱解氮化硼化學氣相生長爐技術特征

      采用先進的進控制技術,能精密控制BCl3/NH3的流量和壓力,爐膛內沉積氣流穩定,壓力波動??;

      多通道工藝氣路,配合旋轉料臺,無沉積死角;

      多級尾氣處理系統,能高效處理腐蝕性尾氣、固體副產物,環境友好;

      可選配最新設計的防腐蝕真空機組,持續工作時間長,維修率低;

      適于工藝氣氛:真空/H2/N2/Ar/BCl3/NH3。


      熱解氮化硼化學氣相生長爐產品規格

      參數\型號VCVD-0305-BNVCVD-0608-BNVCVD-0612-BNVCVD-0812-BNVCVD-1015-BNVCVD-1218-BNVCVD-1315-BNVCVD-1520-BN
      工作區尺寸 φ×H(mm)300×500600×800600×1200800×12001000×15001200×18001300×15001500×2000
      最高溫度(℃)2000
      溫度均勻性(℃)±5~±20
      極限真空度(Pa)1-100
      壓升率(Pa/h)0.67

      以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。

      熱解氮化硼化學氣相生長爐配置選擇

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